Azo savienojumiem to unikālo fotoizomerizācijas īpašību dēļ ir svarīgi pielietojumi funkcionālās plānās plēvēs, mikro/nano ierīcēs un viedos pārklājumos. Formēšanas process tieši ietekmē to mikrostruktūru un veiktspēju. Šo savienojumu formēšanas procesā ir nepieciešama precīza molekulārās orientācijas, agregācijas stāvokļa un saskarnes savienojuma kontrole, vienlaikus saglabājot ķīmisko stabilitāti, lai izpildītu dažādu lietojumu optiskās, mehāniskās un reakcijas ātruma prasības.
Formēšanas procesa pamatā ir vienmērīga azo molekulu izkliedēšana un imobilizācija noteiktā matricā, vienlaikus izvairoties no priekšlaicīgas izomerizācijas, ko izraisa sintēzes atliekas vai ārējie faktori. Šķīduma formēšanai parasti izmantotajiem šķīdinātājiem jābūt gan ar labu šķīdību, gan ar zemu gaistamību, lai novērstu pārmērīgi strauju kristalizāciju vai lokalizētu augstu koncentrāciju, kas varētu izraisīt patoloģisku molekulu agregāciju. Pārklāšanas vai liešanas laikā virsmas enerģija, temperatūras gradients un substrāta izlīdzināšanas ātrums ietekmē molekulu adsorbciju un izlīdzināšanu saskarnē. Atbilstoša kontrole var izraisīt dominējošo transkonformācijas orientāciju, uzlabojot fotoreakcijas anizotropiju. Žāvēšanas stadijā nepieciešama pakāpeniska temperatūras samazināšana vai vakuuma palīdzība, lai samazinātu porainību un stresa koncentrāciju, ko izraisa ātra šķīdinātāja iztvaikošana, tādējādi saglabājot plēves viendabīgumu un mehānisko integritāti.
Kausēšana ir piemērota azoatvasinājumiem ar labu saderību ar polimēru matricu, un to parasti veic inertā atmosfērā, lai novērstu termisko sadalīšanos vai oksidēšanos. Sildīšanas temperatūrai jābūt zemākai par azo grupu termiskās dezaktivācijas slieksni. Vienlaikus molekulāro ķēžu orientāciju kontrolē ar skrūvju bīdīšanu vai stiepšanu, lai labāk izlīdzinātu azogrupas ārējā spēka virzienā, uzlabojot makroskopiskās fotokontroles īpašības. Arī dzesēšanas ātrumam ir nepieciešama precīza pārvaldība; lēna dzesēšana veicina sakārtotu mikroreģionu struktūru veidošanos, savukārt ātru dzēšanu var izmantot, lai sagatavotu amorfas, ļoti caurspīdīgas plēves.
Lietojumprogrammām, kurām nepieciešama mikro/nano rakstīšana, var izmantot fotolitogrāfiju vai mīkstu apdruku kombinācijā ar fotomaskas tehnoloģiju. Konkrēti gaismas viļņu garumi tiek izmantoti, lai selektīvi izraisītu lokālu cis-pārveidošanu, kam seko izstrādes vai fiksācijas soļi, lai iegūtu strukturētu masīvu. Šim procesam ir nepieciešama stingra iedarbības devas un pēcapstrādes apstākļu kontrole, lai izvairītos no nepilnīgas izomerizācijas vai šķērsrunas starp reģioniem. Turklāt vides mitrums, skābekļa saturs un piemaisījumu joni formēšanas procesā var ietekmēt azogrupas stabilitāti. Tāpēc, lai uzlabotu gatavā produkta uzticamību, bieži tiek ieviesta aizsardzība pret inertu gāzi vai stabilizatoru pievienošana.
Rezumējot, azosavienojumu formēšanas procesā ir rūpīgi jāapsver dispersijas vides izvēle, termodinamiskie parametri, ārējā spēka lauka vadība un pēc{0}apstrādes apstākļi. Optimālu molekulārās konformācijas un makroskopiskās morfoloģijas atbilstību var panākt, izmantojot daudzpakāpju sinerģisku regulējumu, kas liek strukturālo pamatu to funkcionālajiem lietojumiem.
